Professores:João Paulo Sinnecker e Tatiana Marcondes (CBPF)
O curso tem por objetivo apresentar, a alunos de final de
graduação e início de pós-graduação, noções de nanolitografia por meio
da abordagem de conceitos básicos de litografia óptica e de litografia
por feixe de elétrons (Electron Beam - EB). Serão apresentadas
técnicas e materiais comumente utilizados em nanolitografia,
demonstrando seu impacto no campo de pesquisa de nanoestruturas. O
curso irá capacitar potenciais usuários de equipamentos disponíveis em
universidades, indústrias e laboratórios multiusuários, como o LabNano
(CBPF).
Ementa:
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Introdução
- Litografia óptica
- Processo de fotolitografia
- Técnicas de remoção de resiste
- Fabricação de máscaras
- Nanolitografia (feixe de elétrons)
- Conceitos básicos sobre feixe de elétrons
- Aplicações em nanoestruturas
- Correções de efeito de proximidade
- Litografia óptica x Nanolitografia
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